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真空等離子清洗機(jī)對(duì)比傳統(tǒng)清洗的優(yōu)勢(shì)

等離子清洗機(jī)在傳統(tǒng)的濕法清洗是采用化學(xué)清洗的方法：如氫氧化氨/雙氧水去除硅片表面的顆粒和有機(jī)物；用鹽酸/雙氧水去除表面金屬；用氫氟酸去除表面自然氧化層；用硫酸/雙氧水去除表面金屬和有機(jī)物。
真空等離子清洗機(jī)濕法清洗作為傳統(tǒng)的清洗方法依然還被應(yīng)用，與現(xiàn)在等離子技術(shù)應(yīng)用還是有很多缺點(diǎn)：
1、不能精確控制；
2、容易引入新的雜質(zhì)；
3、對(duì)殘余物不能處理；
4、消耗大量的酸和水；
5、清洗不徹底，需反復(fù)清洗；
6、污染環(huán)境，需對(duì)廢液進(jìn)行處理；

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